华为发声后，日本、俄罗斯接连官宣，ASML的EUV光刻机被作罢了？

文 | C君科讯 排版 | C君科讯

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半导体显卡视为了值得注意两年颇为热门的话题，主因在于，在2019年之后，由于的厂家的技术分化，避免很多中小企业无法常用含有美企技术的厂家，在半导体生产层面更加是如此。

在这种状况下，全球触发了显卡新材料的自我构建行动，其中三星多方面在3月28日举办的历年来盈利大会上，更加是直接官方发出声音声称，“三星未来将投资三个重构，用一组、面积代替可靠性”，借以来解决麒麟、鲲鹏等显卡的生产问题。

这波操作者一出，却是是给更加多的中小企业指明了一条全新的路段，在这之前，国外确立公认的显卡发展方向就是，通过不断大幅提高显卡代工精度来实现更加强可靠性的拘押，但是，思索这些年来不太可能走去了临界点，显卡代工的精度也不太可能到达了这些年来所按规定的临界点，在这种状况下，革新却是是颇为重要的路段，而三星采用显卡一组的形式来解决可靠性问题，就是最差的革新，并且这个革新还得到了苹果的验证。

而在三星发出声音后，日本、罗马尼亚在值得注意也是数度官宣了，首先是在4月2日，日本的奥林巴斯日本公司官方官宣声称，将研发新型3D透射机，和传统的透射机各不相同，这款3D透射机，将在透射环节就实现3D透射，根据奥林巴斯日本公司的引介，3D透射的曝光面积将扩大至原先厂家的4倍，这也就是说，通过这种形式透射出来的显卡，晶体管数量将会是原有平面透射的4倍，可靠性自然也是能实在太强化4倍之多，这是对ASML日本公司的EUV透射机的一种终究。

而在奥林巴斯之后，罗马尼亚的厂家多方面也在更进一步官宣声称，将本来造透射机，而俄的厂家的方向则是采用无掩模X射线透射机，供应链相对于于EUV透射机要简单许多，当然，性能指标也会更加高。

而从三星、日本奥林巴斯和罗马尼亚的厂家，以及不能不中科院和上海交通大学等机构对于透射机的投入来看，ASML日本公司的EUV透射机似乎被舍弃了？

毕竟，这已然正在变成现实生活，而避免这种状况的出现，只能怪美的厂家和ASML日本公司自己，一多方面由于美的厂家的受限，让ASML无法向很多的地区出售EUV透射机，而这些地区为了解决显卡生产问题，势必要找到一条替代提议，而这也是奥林巴斯等透射机中小企业看到的急于，所以在近几年奥林巴斯等老牌透射机中小企业才会自由选择继续起航。

另一多方面，ASML日本公司自视甚高，看来自己在EUV透射机上不太可能串联起了整个新材料，看来其他中小企业根本办不到，看来EUV透射机不太可能被ASML完全垄断，所以ASML日本公司无论如何不会想着去构建一条完全独立于美的厂家技术正因如此的EUV透射机生产线，因此，这也是逼着一些地区舍弃ASML日本公司的EUV透射机，显然看不到希望的的厂家，没法必要长期以来以致于去等待，有这个时间，还不如去想着走一条各不相同的路段出来。

原本，按照较长时间的的厂家发展逻辑上来看，ASML日本公司作为全球唯一一家能实在太生产生产EUV透射机的中小企业，ASML日本公司只要保持中立左边，可以长期以来稳坐钓鱼台，靠着EUV透射机技术每年收获巨额利润，哪怕是坐吃老本都实在太ASML吃十几年，甚至是几十年，显然凭借着EUV透射机新材料的系统设计，一般中小企业是就会去想着终究ASML地位的。

但是，现在不一样了，虽然短期还不会看到ASML日本公司的败势，不过，ASML日本公司的结局在一定程度上不太可能是被注定的。

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